低沉積速率使膜層結(jié)構(gòu)疏松
低沉積速率使膜層結(jié)構(gòu)疏松,,電子越過其勢壘產(chǎn)生電導(dǎo)的能力弱,,加上氧化和吸附作用,所以電阻值較高,,電阻溫度系數(shù)偏小,甚至為負(fù)值。隨著沉積速率的增大,,電阻值也由大到小,而溫度系數(shù)卻由小到大,,由負(fù)變正,。這是由于低沉積速率的薄膜由于氧化而具有半導(dǎo)體特性,所以溫度系數(shù)出現(xiàn)負(fù)值;而高沉積速率薄膜趨向金屬的特性,,所以溫度系數(shù)為正值,。因此,,一般情況下,也希望有較高的沉積速率,。但對特定的材料要從具體的實驗中正確選擇*的沉積速率,。