按成膜機理分類,，薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學方法兩大類。

   物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,，PVD)是利用某種物理過程,，如物質的熱蒸發(fā)或在受到粒子束轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質從原物質到薄膜的可控的原子轉移過程,。物理氣相沉積的主要特點是:

   (1)需要使用固態(tài)的或者熔化態(tài)的物質作為沉積過程的原物質,；