薄膜的形成與生長過程大體可分為外來原子在基底(或稱為基片、基板或襯底)上的凝結(jié),、擴散,、成核、晶核生長,、原子或粒子團的接合及連接成膜等階段,。薄膜的形成與生長過程不僅與薄膜材料和基底材料有關(guān)，還受原子和離子的狀態(tài)及能量,、沉積速率,、基底溫度、雜質(zhì)等多種因素的影響,。薄膜的生長過程將決定薄膜的微觀組織與結(jié)構(gòu),，而薄膜的微觀組織與結(jié)構(gòu)直接決定薄膜的物理化學(xué)性能。因此,，在討論薄膜結(jié)構(gòu)和性能之前,，先研究薄膜的形成與生長是十分必要的。雖然薄膜的制備方法多種多樣,，薄膜形成的機理各不相同,。但在許多方面,，不同的制膜方法和薄膜的形成與生長過程仍具有許多相同的特點。在本章中,，我們主要以真空制膜為例進(jìn)行討論,。