內(nèi)應力測量方法大體上可分為兩類,，即機械法和衍射法,。機械法測量基片受應力作用后彎曲的程度，衍射法則測量薄膜晶格常數(shù)的畸變,。在這兩大類中又分別有許多不同的方法,，下面簡單介紹幾種常用的方法。
    一,、懸臂梁法

    將薄膜沉積在基片上,，基片受到薄膜應力的作用后將發(fā)生彎曲。當薄膜的內(nèi)應力為張應力時,，基片表面應為由凹面向蒸發(fā)方向彎曲,。當薄膜的內(nèi)應力為壓應力時，蒸有薄膜的基片表面就成為凸面,，向蒸發(fā)方向彎曲,。根據(jù)這個原理，將長條形基片的一端固定,，另一端懸空,，形成所謂懸臂梁，如圖7一9所示,。當基片蒸發(fā)上薄膜后,，受薄膜應力的影響基片發(fā)生形變，懸空的一端將發(fā)生位移,，測量位移量并應用給定的公式就可算出薄膜中的內(nèi)應力,。為了便于測量，并達到較高的靈敏度,，要求基片彈性好,。厚度均勻、厚度與長度的比值很小,。常用的基片是云田片和玻璃片,，有時也用硅、銅,、鋁和鎳等金屬片,。這種方法的靈敏度取決于能檢測出的基片一端的最小位移量。