彎盤法的基本原理與懸臂梁法相同，也是利用基片的形變測定內(nèi)應(yīng)力的,。所不同的是基片為圓形,，在沉積薄膜前后測量基片的曲率半徑Rl和R2,，然后根據(jù)下式計(jì)算出薄膜中的內(nèi)應(yīng)力,。

    為了保證測試系經(jīng)有較高的靈敏度,，需要選用合適的基片和檢測方法。現(xiàn)在常用的基片是玻璃,、石英,、單晶硅等，基片的表面要進(jìn)行光學(xué)拋光,。
    在沉積前后,，將基片放在石英板的光學(xué)平面上,，測M其曲率半徑,，其中最常用的是牛頓環(huán)法，圖7一8是其檢測原理圖。把試樣放在光學(xué)平面上后,，用垂直于表面的光照射,，這時(shí)在試樣表面和光學(xué)平面之間由于光的干涉而產(chǎn)生牛頓環(huán)，測量牛頓環(huán)的間隔就可以測定基片的曲率半徑,，從而算出內(nèi)應(yīng)力,。